PORTFOLIO

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株式会社FLOSFIA

  • 代表取締役社長:
    人羅 俊実 氏

URL:http://flosfia.com

COMPANY PROFILE

新規パワー半導体「コランダム構造酸化ガリウム(α-Ga₂O₃)」を通じて省エネ革命を実現!

株式会社FLOSFIAは、京都大学の藤田静雄教授と共同開発したミストCVD法を用いたコランダム構造・酸化ガリウム系半導体の単結晶成長技術を駆使し、超低損失で低コストな次世代パワーデバイスの商用化を目指すベンチャー企業。電気エネルギーの発生・輸送・消費を効率的に行ううえでのキーコンポーネントであるパワーデバイスを革新し、グローバルに省エネに貢献していく。

COMPANY STORY

起業の発端

創業メンバーの一人が京都大学藤田静雄研究室発の「新技術」を使って新しいコランダム結晶材料を発見。事業化の為に京大メンバーが集結

強み(競争優位性)

京大発のミストCVD法と、当該技術を用いて作製するコランダム型酸化ガリウム系半導体技術に強み。ミストCVD法は非真空成膜技術で高機能・高品質な金属酸化膜を安価に作る画期的技術。酸化ガリウムはパワーデバイスとして圧倒的な材料ポテンシャルを持つ材料で、世界に先駆け開発を推進

UTECのバリューアップ(貢献)

日々直面する研究開発・人員体制・資本政策等のさまざまな課題に対し、豊富な成功体験を有し他社事例を知るキャピタリストが助言し、行動することで事業推進を加速
  • 直径4インチの
    酸化ガリウム結晶製造法を確立

  • α-Ga₂O₃を用いたSBD製品開発に成功

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